ቱንግስተን በበርካታ ምክንያቶች በአካላዊ የእንፋሎት ማጠራቀሚያ (PVD) ሂደት ውስጥ እንደ ዒላማ ጥቅም ላይ ይውላል.

1. ከፍተኛ የማቅለጫ ነጥብ: Tungsten በሁሉም ብረቶች መካከል ከፍተኛው የማቅለጫ ነጥብ አለው, ስለዚህ በ PVD ሂደት ውስጥ የሚፈጠረውን ከፍተኛ ሙቀት ለመቋቋም ተስማሚ ነው.ይህ የተንግስተን ዒላማ የሙቀት ጭንቀትን እንዲቋቋም እና በሚቀመጥበት ጊዜ መዋቅራዊ አቋሙን እንዲጠብቅ ያስችለዋል።

2. Thermal conductivity፡ Tungsten እጅግ በጣም ጥሩ የሙቀት መጠን ያለው ሲሆን በ PVD ሂደት ውስጥ የሚፈጠረውን ሙቀት ለማስወገድ ይረዳል።ይህ ንብረት የዒላማ መረጋጋትን ለመጠበቅ እና ወጥ የሆነ የፊልም ማስቀመጫ ለማረጋገጥ ወሳኝ ነው።

3. በኬሚካላዊ አለመታዘዝ፡ Tungsten ለኬሚካላዊ ምላሽ እና ለዝገት ጠንካራ የመቋቋም ችሎታ ስላለው ለ PVD ሂደት ተስማሚ ቁሳቁስ ያደርገዋል።በ PVD ሂደት ውስጥ, የታለመው ቁሳቁስ ምላሽ ሰጪ ጋዞች ወይም ከፍተኛ ኃይል ያለው ፕላዝማ ሲኖር የተረጋጋ መሆን አለበት.

4. የፊልም ጥራት፡ የተንግስተን ዒላማዎች ከፍተኛ ጥራት ያላቸውን ፊልሞች እንደ ከፍተኛ ጥግግት፣ ተመሳሳይነት እና ከንጥረ ነገሮች ጋር መጣበቅን የመሳሰሉ ከፍተኛ ጥራት ያላቸውን ፊልሞች ማምረት ይችላሉ፣ ይህም ለተለያዩ የኢንዱስትሪ አፕሊኬሽኖች ተስማሚ ያደርጋቸዋል።

በአጠቃላይ ከፍተኛ የማቅለጫ ነጥብ፣ የሙቀት መቆጣጠሪያ እና ኬሚካላዊ መረጋጋትን ጨምሮ በተንግስተን የሚታየው ልዩ የባህሪዎች ጥምረት በ PVD ሂደት ውስጥ እጅግ በጣም ጥሩ ዒላማ ምርጫ ያደርገዋል ፣ ይህም የተለያዩ ከፍተኛ አፈፃፀም ያላቸውን ፊልሞች ማምረት ይችላል።የኢንዱስትሪ መተግበሪያዎች.